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光刻机技术即将被突破,7nm芯片不再是难题,很快就会量产!

大家都知道荷兰的ASML是光刻机生产巨头,全世界只有这一家公司掌握光刻机技术,最近ASML公司在全球范围内,出口了将近57台EUV光刻机,但是中国没有一家企业购得一台光刻机,这和美国对华为的制裁有一定的关系。

没有最新的光刻机也就意味着,中国没办法生产最新最高端的芯片,这也是让中国的半导体行业在芯片工艺上,被美国直接“卡住了脖子”,就在很多人想尽各种办法束手无策的时候,中芯国际却出乎意料的站了出来,表示目前他们正在打造一款N+1芯片技术。

而且这项技术完全用不到最新的光刻机,用这项技术完全可以生产出7nm的芯片,这项技术可以无限接近7nm芯片的制造工艺,甚至严格的来说已经超越了7那么芯片工艺,在一定功能上远比7nm芯片强大很多,虽然这项工艺的步骤要繁琐很多,但是整体制造的成本也下降了20%,而且中芯国际表示这项技术已经完全成熟。

在不久的将来就可以实现7nm芯片的量产,并且中芯国际已经在研究N+2芯片工艺,很有可能会领先于很多国家生产出更高端的芯片,网友们纷纷表示中芯国际干得漂亮,大家对N+1芯片技术有什么想说的呢?

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